Новейшая система  в линейке продуктов Applied Materials Verity SEM ‒ система CD-SEM (РЭМ критических размеров)Verity SEM 5i имеет первые в своем роде встроенные 3D-возможности для высокоточной метрологии логических и запоминающих устройств на узлах 1-нм и выше. Используя новейшую технологию SEM Vision® G6, новая система позволяет решать проблемы измерений физических размеров передовыми геометриями. Её современная система контроля растрового электронного микроскопа (SEM) с высоким разрешением позволяет измерять до 6-нм; инновационные алгоритмы улучшения изображения помогают измерять даже мелкие детали шаблона. Встроенная система наклона луча позволяет измерять 3D плавниковые транзисторы между тем как обратно рассеянное измерение электронов (BSE) 3DИ-НЕ соответствует высокому аспектному соотношению, нижним критическим размерам и методам BEOL.

При традиционных измерениях таких параметров плавниковых транзисторов (FinFET), как высота затвора и плавников, единообразие которых имеет решающее значение для производительности устройства, текущая встроенная технология РЭМ критических размеров(SEM CD) может отслеживать только изменения размеров с видом сверху, а не высоту и степень наклона. Излучение системы контроля Verity SEM 5i устраняет эти проблемы, позволяя рассчитывать и контролировать высоты затворов и плавников. По мере того, как технология масштабируется, пропорции трехмерных структур памяти И-НЕ увеличиваются до 60: 1 и выше, что делает точное измерение нижнего критического размера невозможным с использованием обычной метрологии. Изображение обратно рассеянных электронов (BSE) с высоким разрешением расширяет сигнал, полученный из этих структур, позволяя системе Verity SEM 5i «видеть» глубоко сквозь переходные отверстия и углубления для точного измерения. Эта способность также улучшает измерения критических размеров углублений при обработке BEOL, где необходимо достичь желаемой связи между подложкой и накрывающими слоями металлизации, чтобы свести к минимуму сопротивление.

Исключительная линейная точность и контроль процесса системы Verity SEM 5i устраняют более длительное и дорогостоящее кросс-секционирование пластины в нелинейном режиме, помогая производителям оптимизировать процесс разработки, улучшать производительность устройства и сокращать время ввода установки в рабочий режим.

Система Verity SEM 5i обладает возможностью создавать наборы команд для полной автоматизации. В автономном генераторе наборов команд (ORG) реализованы возможности редактирования наборов с помощью внешнего сервера, что позволяет нескольким пользователям создавать наборы команд для компьютерного проектирования без использования пластин. Наборы команд автоматически сохраняются в базе данных инструментов. Без затрат времени на проектирование, ORG позволяет пользователю максимально продуктивно использовать инструмент в процессе производства.