Описание:
В микроскопе Scios применяется аналитическая двулучевая технология сверхвысокого разрешения, обеспечивающая выдающиеся эксплуатационные характеристики при двухмерном и трёхмерном анализе широкого диапазона образцов, включая магнитные материалы. Scios позволяет получать изображения высокого разрешения и впечатляющую пропускную способность при выполнении двухмерного и трёхмерного анализа.
Области применения: материаловедение, нанотехнологии.
Ключевые преимущества
- Более полная информация при анализе сложных образцов: лучшие в классе показатели разрешения и контрастности позволяют собрать больше данных и точнее проанализировать их даже при работе с магнитными материалами.
- Ускорение процесса получения результатов: ФИП с высокой пропускной способностью позволяет быстрее получить результаты анализа.
- Упрощение сбора данных: широкий спектр сигналов может обрабатываться одновременно благодаря технологии внутрилинзового детектирования Trinity, разработанной компанией FEI.
- Исключительное удобство эксплуатации: высокая степень автоматизации делает микроскоп Scios очень простым в эксплуатации и позволяет уверенно вести исследовательскую работу.
- Более точная подготовка образцов: 16-битное цифровое формирование структуры и получение изображения обеспечивает лучшие в классе показатели управления лучом и обработки сигналов.
- Широкие возможности настройки: гибкая конфигурация DualBeam может быть без труда оптимизирована под конкретные требования.
Ускорение процесса получения данных
В основе микроскопа Scios лежит усовершенствованная технология внутрилинзового детектирования Trinity™, разработанная в компании FEI. Обеспечивая одновременный сбор всех сигналов, эта технология экономит время и позволяет получить максимальный объём данных благодаря высочайшей контрастности. В микроскопе используется инновационный подлинзовый концентрический детектор обратноотражённых электронов, предоставляющий возможность выбора сигнала с учётом его углового распределения и тем самым упрощающий разделение материалов и топографической контрастности — даже при контактной энергии 20 эВ.
Простота высокоточной подготовки образца
В микроскопе Scios используется проверенная разработка компании FEI — ионная колонна Sidewinder™, ускоряющая подготовку образцов благодаря высокой плотности тока пучка и возможности очистки с низкой энергией. Являясь растровым электронным микроскопом, Scios обеспечивает высокоточную подготовку образцов на уровне просвечивающих электронных микроскопов и возможность контроля обработки фокусированным ионным пучком (ФИП), что позволяет задать конечные точки даже для мельчайших объектов. Интегрированное 16-битное приложение для формирования изображения надёжно контролирует ФИП и РЭМ на всех этапах создания изображения.
Гибкость и простота эксплуатации
Компания FEI сделала всё возможное, чтобы микроскоп Scios было максимально легко эксплуатировать и обслуживать. Электронная колонна NICol™ была специально разработана для упрощения эксплуатации: благодаря полностью автоматизированной регулировке положения настраивать колонну приходится заметно реже. Конструкция пушки с полевой эмиссией (FEG) также оптимизирована, что позволяет обойтись без механической регулировки её положения. При работе с микроскопом Scios на экран выводятся подсказки, помогающие начинающим пользователям быстро освоить прибор. Функции отмены и возвращения предыдущего действия позволяют уверенно и спокойно вести исследовательскую работу.
Предметный столик 110 мм может наклоняться на угол до 90˚ и обладает длинным ходом в различных плоскостях. Микроскоп Scios позволяет изучать широкий спектр образцов и применять различные способы сбора данных, обеспечивая при этом детектирование максимального числа сигналов энергодисперсионной рентгеновской спектроскопии (EDS) в точке совпадения ФИП и РЭМ.
NICol: неиммерсионная колонна FESEM сверхвысокого разрешения
Колонна автоэмиссионного РЭМ высокого разрешения:
- Высокоустойчивая автоэмиссионная пушка Шоттки
- Срок службы источника 12 месяцев
- Простые установка и обслуживание пушки — автоматический прогрев, автоматический запуск, отсутствие потребности в механической регулировке положения
- Автоматизированные нагреваемые апертуры
- Непрерывное регулирование тока пучка и оптимизированная апертура
- Двухступенчатое обнаружение при сканировании
- Линза с двойным объективом, сочетающая электромагнитные иэлектростатические линзы
- Диапазон тока пучка: от 1 пА до 400 нA
- Диапазон контактной энергии: от 20 эВ до 30 кэВ*
- Диапазон ускоряющего напряжения: от 350 эВ до 30 кэВ
- Подсказки для пользователя и предустановки
Разрешение электронного пучка при оптимальном рабочем расстоянии
Формирование изображения в высоком вакууме при оптимальном рабочем расстоянии:
- 0,8 нм при 30 кэВ (STEM)
- 1,0 нм при 15 кэВ
- 1,6 нм при 1 кэВ
Предметный столик и образцы
- Максимальная ширина горизонтального поля: 4,0 мм при рабочем расстоянии 7 мм (соответствует минимальному
- увеличению до 30x в квадрантном виде)
- Особо широкая зона видимости (1х), достигаемая благодаря стандартному навигационному монтажу
Камера
- Слева направо: 379 мм
- Аналитическое рабочее расстояние: 7 мм
- Отверстия: 21
- Угол закрытия горизонта EDS: 35°
Ионная колонна Sidewinder
- Жидкометаллический галлиевый источник ионов с высокой плотностью тока
- Срок службы источника: гарантируется 1 300 часов/2 600 мкА
- Ускоряющее напряжение: от 500В до 30 кВ
- Ток зонда: от 0,6 пА до 65 нA, 15 ступеней
- Стандартное гашение пучка
- Апертурная полоса с 15 положениями
- Увеличение: 40×-1,28Mх в зависимости от поляроидного светофильтра
- Режим подавления смещения входит в стандартную комплектацию для непроводящих образцов
Разрешение ионного пучка
- Формирование изображения в высоком вакууме, оптимальное рабочее расстояние
- 3,0 нм (статистика на основе свыше 50 кромок)
- 5,0 нм (статистика на основе свыше 1000 кромок)
Детекторы
- Система обнаружения Trinity (внутрилинзовая и встроенная в колонну)
- T1 сегментированный нижний внутрилинзовый детектор
- T2 верхний внутрилинзовый детектор
- T3 выдвижной, встроенный в колонну детектор*
- До четырёх одновременно обнаруживаемых сигналов
- Детектор вторичных электронов Эверхарта — Торнли
- ICE-детектор (вторичные электроны и ионы)*
- Выдвижной сегментированный BSED-детектор с направленным обратным рассеянием*
- Выдвижной сегментированный STEM-детектор (BF, DF, HADF, HAADF)*
- IR-CCD
- Камера Nav-Cam™, установленная в камере*
Вакуумная система
- Полностью безмасляная вакуумная система
- 1 × 220 л/с турбомолекулярный насос
- 1 × PVP-винт
- 3 × IGP
- Вакуумная камера (высокий вакуум) < 6,3 x 10-6 мбар (через 72 часа откачки)
- Время откачки: < 3,5 мин
Держатели образцов
- Стандартный многофункциональный держатель, уникальное крепление непосредственно к предметному столику, обеспечивает возможность крепления до 18 стандартных стоек (Ø12 мм), трёх предварительно наклонённых стоек, двух вертикальных и двух предварительно наклонённых реечных штативов* (38 и 90 градусов)
- Каждый дополнительный реечный штатив позволяет закрепить 6 решёток S/TEM
- Держатели подложек и держатели, изготовленные по индивидуальному заказу*
Поддерживающее программное обеспечение
- Концепция графического пользовательского интерфейса ≪Beam per view≫ (один пучок в виде) с отображением до 4 одновременно активных видов ·FEI SPI™, iSPI™, iRTM™ для улучшенного контроля процессов РЭМ и ФИП и задания конечных точек в реальном времени
- Поддерживаемые графические элементы: линии, прямоугольники, многоугольники, окружности, кольца, сечения, очищенные сечения, формирование массивов, запрещённые зоны, динамическое пороговое травление
- Регистрация изображений
- Напрямую импортированные BMP-файлы или потоковые файлы для трёхмерного травления и осаждения
- Поддержка массивов данных для минимизации времени обработки, корректировка пучка и независимые перекрытия
- Навигационный монтаж
- Программное обеспечение визуального анализа
- Отмена и возврат предыдущего действия
Процессор изображений
- Интервал времени точечной экспозиции (dwell time) сканирования 0,025–25 000 мкс/пиксель
- До 6144 x 4096 пикселей
- Тип файла: TIFF (8, 16, 24-битный), BMP или JPEG, стандартный
- Однокадровое изображение или изображение в четырёх квадрантах
- SmartSCAN™ (256 кадров усреднения или накопления, линейного интегрирования и усреднения, чересстрочной развёртки)
- Интегрирование кадра с компенсацией смещения (DCFI)
- Регистрация изображений
Управление системой
- 64-битный графический пользовательский интерфейс на базе Windows 7, клавиатура, оптическая мышь
- Концепция графического пользовательского интерфейса ≪Beam per view≫ (один пучок в виде) с отображением до 4 одновременно активных видов
- 24-дюймовый ЖК-монитор*, WUXGA 1920 x 1200 (второй монитор по дополнительному заказу)
- Джойстик по дополнительному заказу
- Многофункциональная панель управления по дополнительному заказу
Вспомогательное оборудование (по дополнительному заказу)
- Очистка образца / камеры: FEI CryoCleaner, FEI Integrated Plasma Cleaner
- Анализ: EDS, EBSD, WDS, CL
- QuickLoader™: загрузочный шлюз для быстрого переноса образца
- Навигация: Nav-Cam, Correlative Navigation, MAPS Tiling and Stitching
- FEI Gas Injection: до 4 единиц (другие виды вспомогательного оборудования могут накладывать ограничения наколичество доступных газоинжекторных систем) для осаждения, индуцированного электронным
- пучком, и травления с возможностью выбора более чем из 10 прекурсоров, таких как:
- Платина
- Оксид кремния
- Вольфрам
- Расширенная функция травления (I2)
- Углерод
- Расширенная функция травления изоляционного материала (XeF2)
- Золото
- Селективное травление углерода (водяное)
- Манипуляторы
- Электрическое зондирование
- Система локального подъёма образца FEI EasyLift™ (или другие манипуляторы).
Программные приложения по дополнительному заказу
- Пакет AutoFIB™ для автоматизации работы двулучевой системы DualBeam на базе макросов и скриптов
- iFast для повышения уровня автоматизации двулучевой системы DualBeam
- MAPS™ для автоматического получения больших изображений и совместной работы
- Мастер AutoTEM™ для автоматизированной подготовки образцов и поперечного сечения S/TEM
- Auto Slice & View™: автоматизированная ионная резка и просмотр для сбора серий срезов для трёхмерной реконструкции
- Программное обеспечение трёхмерной реконструкции
- EBS3™: автоматизированная ионная резка и получение EBSD-карт для сбора серий текстурных илиориентационных карт для трёхмерной реконструкции
- EDS3™: автоматизированная ионная резка и получение ESD-данных для сбора серий химических карт длятрёхмерной реконструкции
- Программное обеспечение доступа к веб-архиву данных
- Программное обеспечение визуального анализа.
Документация
- Онлайновые инструкции для пользователей
- Руководство по эксплуатации
- Онлайн-справка
- Подготовлен к работе с RAPID™(поддержка дистанционной диагностики)
- Бесплатный доступ к онлайн-ресурсам ≪FEI для владельцев≫
Гарантия и оборудование
- Гарантия 1 год
- Выбор плана сервисного обслуживания
- Выбор программ обучения по эксплуатации / сферам применения
- Расходные материалы (неполный перечень)
- Запасной галлиевый источник ионов
- Запасной модуль источника электронов Шоттки
- Апертурные полосы для электронной и ионной колонн
- Заправка GIS
Требование к установке (более подробные сведения приводятся в руководстве по предварительной установке)
- Электропитание:
- напряжение 100–240 В~ (-6%, +10%)
- частота 50 или 60 Гц (± 1%)
- расход мощности: < 3,0 кВА в базовой комплектации
- Сопротивление заземления < 0,1Ом
- Окружающие:
- температура 20 ± 3 °C
- относительная влажность менее 80%
- паразитные ЭМП переменного тока:
- < 40 нТ асинхронные
- < 300 нТ синхронные для времени передачи данных
- > 20 мс (сеть питания 50 Гц) или
- > 17 мс (сеть питания 60 Гц)
- Минимальный размер дверного проёма: 0,9 м ширина × 1,9 м высота
- Вес: консоль колонны 980 кг
- Сухой азот
- Сжатый воздух 4–6 бар — чистый, сухой, безмасляный
- Охладитель системы
- Уровень шума: требуется обследование места установки, поскольку должен учитываться акустический спектр
- Вибрация пола: требуется обследование места установки, поскольку должен учитываться спектр частот вибрации пола
- Виброизоляционный стол поставляется по дополнительному заказу
Технические характеристики:
Характеристика
|
Значение
|
Электронная оптика
|
Высокоустойчивая автоэмиссионная пушка Шоттки.
Диапазон тока пучка: от 1 пА до 400 нA
|
Ионная оптика
|
Источник ионов на базе жидкого галлия для применения в высоком вакууме.
Ток зонда: от 0,6 пА до 65 нA.
|
Разрешение в электронах
|
1,0 нм при 15 кэВ
1,6 нм при 1 кэВ
|
Разрешение в ионах
|
5 нм
|
Ускоряющее напряжение
|
Электроны - от 350 эВ до 30 кэВ
Ионы - от 500 В до 30 кВ
|
Диапазон энергий электронов у поверхности образца (режим торможения пучка)
|
от 20 В до 30 кВ
|
Ширина камеры
|
379 мм
|
Количество портов
|
21
|
Столик:
|
- Тип
|
Эвцентрический гониометрический столик, 5-осевой моторизованный
|
- Ход по осям X и Y
|
110 х 110 мм
|
- Воспроизводимость результатов по осям X и Y
|
< 2,0 мкм (при наклоне 0°)
|
- Ход по оси Z
|
65 мм
|
- Поворот
|
n x 360°
|
- Наклон
|
-15° …+90°
|
Максимальная высота образца
|
Расстояние 85 мм до эвцентрической точки
|
Максимальный вес образца
|
500 г при любом положении предметного столика (до 2 кг при наклоне 0°)
|
Максимальный размер образца
|
150 мм при полном вращении (для образцов большего размера вращение ограничено)
|